这股有毒 发布了新的状态:套刻精度:这是指前后两道光刻工序之间彼此图形的对准精度。 ArF光刻机光刻精度65nm,两次光刻之间的对准精度8nm。 官方文件就是拗口,ArF写成氟化氩,对准精度写成套刻精度